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XPS pour la micro / opto-électronique, la chimie des surfaces et des interfaces

Environnement scientifique et technique de la formation

Institut Lavoisier de Versailles - UMR 8180

RESPONSABLE

Arnaud ETCHEBERRY

Directeur de recherche

UMR 8180

LIEU

VERSAILLES (78)

ORGANISATION

3 jours
De 5 à 12 stagiaires
TP encadrés par un intervenant pour 5 stagiaires

COÛT PÉDAGOGIQUE

1500 Euros

A L'ISSUE DE LA FORMATION

Evaluation de la formation par les stagiaires
Envoi d'une attestation de formation

DATE DU STAGE

17296 : du lundi 27/11/2017 au mercredi 29/11/2017

Janvier Février Mars Avril
Mai Juin Juillet Août
Sept. Oct. Nov.
17296
Déc.

OBJECTIFS

- Avoir les connaissances nécessaires sur l'XPS associé à l'X-AES pour la conception, l'expertise et la fiabilité de composants en micro / opto-électronique
- Connaître les capacités de l'XPS pour l'analyse chimique des surfaces et interfaces
- Etre capable d'exploiter quantitativement un spectre XPS

PUBLICS

Ingénieurs et chercheurs impliqués dans le domaine de la conception, du développement de composants pour la micro / opto-électronique

Prérequis : connaissances en physique et chimie du solide ; connaissances en atomistique de base (Bac + 3 minimum)

PROGRAMME

1er jour
- Introduction à la spectroscopie de photoélectrons et électrons Auger excités par rayons X
- Détermination de la composition atomique, exploitation du déplacement chimique, exploitation de la distribution angulaire
- Exploitation d'un spectre général puis de spectres pris à haute résolution
- Prise en main d'un logiciel d'exploitation : travaux dirigés sur des spectres en rapport avec les surfaces de la micro ou de l'opto-électronique
2ème et 3ème jours
- Travail spécifique sur les filières matériaux pour la micro / opto-électronique, l'XPS sur Si, sur Ge, sur SiGe, sur les III-Vs (binaires, ternaires, quaternaires) et sur les II-VIs (points communs et spécificités)
- Profilage XPS
- Approche quantitative sur la réelle réactivité de ces surfaces, sur les stratégies d'ingénierie et sur l'analyse de la contamination carbonée

Il est proposé aux stagiaires d'apporter un échantillon (sous réserve de l'accord préalable du responsable) dont le spectre sera effectué pendant la formation (définition de la procédure, choix des fenêtres, etc.). Les supports d'analyse seront fournis par la bibliothèque de spectres du CEFS2. Les stagiaires auront également la possibilité d'apporter leur propre jeu de données qui sera analysé à des fins pédagogiques sous réserve de l'accord préalable du responsable de la formation.


Alternance de cours (50 %) et de travaux dirigés (50 %)

EQUIPEMENT

Les stagiaires auront accès au centre CEFS2 (3 spectros XPS, 1 spectro ARXPS) ; deux d'entre eux seront immobilisés pour le stage et les manipulations en temps réel qui y seront dispensées. Les supports informatiques et logiciels seront fournis pendant le stage.

INTERVENANTS

A. Etcheberry, D. Aureau (chercheurs), M. Bouttemy, M. Fregnaux et J. Vigneron (ingénieurs)

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