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Microscopie à balayage double faisceaux (FIB / SEM) : un instrument multiple

RESPONSABLES

Thierry DOUILLARD

Ingénieur d'études

UMR 5510

Florent DALMAS

Maître de conférences

UMR 5510

Armel DESCAMPS-MANDINE

Ingénieur d'études

UMS 3623

LIEU

VILLEURBANNE (69)

ORGANISATION

5 jours ; de 4 à 6 stagiaires

COÛT PÉDAGOGIQUE

2500 Euros

A L'ISSUE DE LA FORMATION

Evaluation de la formation par les stagiaires ; attestation de formation

DATE DU STAGE

18134 : du lundi 19/03/2018 au vendredi 23/03/2018

Janvier Février Mars
18134
Avril
Mai Juin Juillet Août
Sept. Oct. Nov. Déc.

OBJECTIFS

- Acquérir ou parfaire ses connaissances théoriques et pratiques utiles à l'utilisation d'un FIB / SEM
- Appréhender de manière pratique l'acquisition et les premiers traitements des données de type 3D
- Savoir optimiser les dépôts in situ et les usinages FIB (notamment pour la préparation des lames TEM)

PUBLICS

Chercheurs, ingénieurs et techniciens intéressés par les différentes applications du FIB / SEM

Afin d'adapter le contenu du stage aux attentes des stagiaires, un questionnaire téléchargeable ICI devra être complété et renvoyé au moment de l'inscription.

PRÉREQUIS

Avoir des bases en microscopie électronique à balayage

PROGRAMME

- Histoire des faisceaux de particules chargées et des appareils à double faisceaux
- Interactions ions-matière
- LMIS, autres sources et optiques FIB
- Rappels sur l'imagerie SEM utiles à la nano-tomographie
- Principes de la nano-tomographie FIB / SEM et exemples d'applications
- Premiers traitements d'une suite d'images (utilisation du logiciel Open Source FIJI)
- Mécanismes et stratégies de dépôt assistés par FIB ou SEM
- Simulation des interactions FIB / échantillon par une approche de type Monte-Carlo (utilisation du logiciel Open Source SRIM / TRIM) - application à la préparation d'une lame TEM
- Introduction à l'imagerie ionique et à la cartographie d'orientations cristallines par contraste de canalisation FIB (technique iCHORD: ion CHanneling ORientation Determination)

Programme détaillé téléchargeable ICI.

Alternance de cours (50 %) et de TD / TP (50 %) en sous-groupes avec 1 intervenant pour 3 stagiaires maximum

EQUIPEMENTS

FIB Zeiss NVision 40, micromanipulateurs Klocke Nanotechnik, EDX-EBSD Oxford Intruments, NanoPatterning and Visualisation Engine (NPVE) - FIBICS
Il est conseillé aux stagiaires de venir avec leur propre ordinateur portable.

INTERVENANTS

N. Blanchard, A. Descamps-Mandine, T. Douillard, E. Gautier, P.-H. Jouneau (ingénieurs), F. Dalmas, C. Langlois (maîtres de conférences), D. Rousseau (professeur) et A. Delobbe (Orsay Physics)

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