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La micro-nano technologie : introduction aux procédés

Environnement scientifique et technique de la formation

Centre de nanosciences et de nanotechnologies

- UMR 9001
RESPONSABLE

Marion WOYTASIK

Maîtresse de conférences

UMR 9001

LIEU

ORSAY (91)

ORGANISATION

6 jeudis après-midi du 09/01/20 au 13/02/20, de 14h à 17h

Possibilité de faire ce stage en 3 jours à la demande pour 5 stagiaires minimum

COÛT PÉDAGOGIQUE

900 Euros

A L'ISSUE DE LA FORMATION

Evaluation de la formation par les stagiaires
Envoi d'une attestation de formation

DATE DU STAGE

20091 : Nous consulter

Janvier Février Mars Avril
Mai Juin Juillet Août
Sept. Oct. Nov. Déc.
OBJECTIFS
-

Connaître les conditions de travail en salle blanche


-

Acquérir des bases dans différents domaines des micro et nano-technologies : lithographie, gravure, dépôt de couches minces, plasmas

PUBLIC
Toute personne souhaitant mettre en œuvre des procédés technologiques
PRÉREQUIS
Aucun
PROGRAMME
Environnement salle blanche : contamination et zones à atmosphères contrôlées
- La contamination : définitions / mécanismes
- Salles blanches et filtration des fluides
- Les nettoyages humides : exemples et contamination de surface en procédé

Initiation au vide
- Les gaz et la pression, les pompes, les fuites, le dégazage

Elaboration de couches minces
- PVD, CVD : principes des techniques
- Contraintes, modes de croissance : définition et influence sur les propriétés physiques (adhérence...)

La lithographie optique
- Les résines, leurs paramètres importants : résolution, contraste, sensibilité, courbe de réponse spectrale, tenue à la gravure
- La photolithographie : les différents modes d'insolation, la résolution, les perturbations (diffraction, proximité...)

Les techniques de gravure
- La gravure chimie / physique, la gravure sèche / humide
INTERVENANTS
J.-R. Coudevylle, S. Guilet (ingénieurs), Ch. Renard (chercheur), M. Woytasik, G. Agnus (maîtres de conférences) et P. Lecoeur (professeur)
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