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XPS : les fondamentaux

Environnement scientifique et technique de la formation

Institut des matériaux Jean Rouxel - UMR 6502

RESPONSABLE

Vincent FERNANDEZ

Ingénieur de recherche

UMR 6502

LIEU

NANTES (44)

ORGANISATION

2,5 jours
De 3 à 6 stagiaires

COÛT PÉDAGOGIQUE

1200 Euros

A L'ISSUE DE LA FORMATION

Evaluation de la formation par les stagiaires
Envoi d'une attestation de formation

DATE DU STAGE

20102 : du mercredi 18/03/2020 au vendredi 20/03/2020

Janvier Février Mars
20102
Avril
Mai Juin Juillet Août
Sept. Oct. Nov. Déc.

OBJECTIFS

- Comprendre la technique de caractérisation de surface par spectroscopie de photoélectrons X (XPS)
- Avoir les clés pour mettre en place un protocole expérimental en fonction de la problématique et des échantillons pour XPS et l'érosion ionique
- Savoir identifier la quinzaine de processus observables dans un spectre XPS et/ou une image
- Savoir faire une quantification élémentaire à l'aide du logiciel de traitement de données
- Comprendre les différents types d'incertitudes
- Savoir déterminer l'environnement chimique d'un atome
- Savoir faire l'analyse de base des images XPS

PUBLICS

Ingénieurs et techniciens supérieurs

Afin d'adapter le contenu du stage aux attentes des stagiaires, un questionnaire téléchargeable ICI devra être complété et renvoyé au moment de l'inscription.

PRÉREQUIS

Bac + 2 scientifique minimum

PROGRAMME

Cours (9 h)
- Présentation de la caractérisation de surface
- Description des appareillages de mesure
- Principe du processus XPS
- Analyse des données
- Profil d'analyse chimique par érosion ionique

Travaux dirigés (6 h)
- Identification et quantification élémentaire
- Détermination et quantification d'environnement chimique
- Profil de concentration
- Incertitude statistique pour quantification élémentaire et quantification des environnements chimiques

EQUIPEMENT

Il est demandé aux stagiaires de venir avec leur ordinateur portable et des écouteurs.

INTERVENANTS

V. Fernandez (ingénieur) et M. Richard (chercheuse)

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