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Couches minces et filtrage optique

Environnement scientifique et technique de la formation

Institut Fresnel

- UMR 7249
RESPONSABLES

Julien LUMEAU

Chargé de recherche

UMR 7249

Fabien LEMARCHAND

Maître de conférences

UMR 7249

LIEU

MARSEILLE (13)

ORGANISATION

2 jours
De 3 à 6 stagiaires

COÛT PÉDAGOGIQUE

1000 Euros

A L'ISSUE DE LA FORMATION

Evaluation de la formation par les stagiaires
Envoi d'une attestation de formation

DATES DES SESSIONS

Les informations indiquées pour cette page sont valables pour la première session à venir.
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20345 : du lundi 05/10/2020 au mardi 06/10/2020

21103 : du lundi 11/10/2021 au mardi 12/10/2021

2020
Janvier Février Mars Avril
Mai Juin Juillet Août
Sept Oct
20345
Nov Déc
2021
Janvier Février Mars Avril
Mai Juin Juillet Août
Sept Oct
21103
Nov Déc
OBJECTIFS
-

Connaître les méthodes de conception d'un filtre à base de couches minces optiques


-

Connaître les méthodes de fabrication de filtres optiques interférentiels


-

Savoir caractériser un filtre optique interférentiel


-

Savoir définir ses besoins en termes de composants de filtrage optique pour la conception d'un système optique

PUBLIC
Ingénieurs et chercheurs en charge de la définition des besoins lors du design d'un système optique nécessitant l'emploi de composants de filtrage optique
PRÉREQUIS
Bonnes connaissances en optique physique, en particulier sur les interférences à ondes multiples ainsi qu'une expérience dans le domaine de la métrologie optique. Aucun prérequis sur les couches minces optiques et la technologie du vide n'est exigé.
PROGRAMME
1er jour
- Introduction aux couches minces optiques
- Présentation des fonctions de filtrage en couches minces optiques
- Méthodes de calculs d'empilements de couches minces optiques
- Méthodes de synthèse de filtres à base de couches minces optiques et démonstration sur logiciel commercial
- Présentation des méthodes de dépôts physiques à base de couches minces optiques
- Présentation des méthodes de contrôle de filtres en couches minces optiques
- Démonstration de dépôt de filtres optiques interférentiels dans le cadre de la plateforme technologique de l'Espace Photonique

2ème jour
- Présentation des méthodes de caractérisation de filtres à base de couches minces optiques
- Démonstration de caractérisation de filtres optiques interférentiels dans le cadre de la plateforme technologique de l'Espace Photonique
- Présentation des informations nécessaires lors de la définition des performances d'un filtre à base de couches minces optiques
- Etudes de cas soumis par les stagiaires au responsable scientifique du stage une semaine avant le début de la formation (sous réserve de l'accord préalable du responsable) et analyse de possibles solutions

Alternance de cours (50 %) et de travaux pratiques et dirigés (50 %)
EQUIPEMENTS
Machines de dépôt sous vide (évaporation assistée par plasma et/ou pulvérisation cathodique magnétron), spectrophotomètre, profilomètre optique
Voir le site de l'Espace Photonique de l'Institut Fresnel pour une description détaillée des équipements
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