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Interactions plasma / surfaces : utilisation des plasmas froids pour le traitement de surfaces

RESPONSABLE

Stéphane BECHU

Directeur de recherche

UMR 5821

LIEU

GRENOBLE (38)

ORGANISATION

3,5 jours
De 6 à 18 stagiaires

COÛT PÉDAGOGIQUE

1700 Euros

A L'ISSUE DE LA FORMATION

Evaluation de la formation par les stagiaires
Envoi d'une attestation de formation

DATE DU STAGE

20442 : du mardi 24/11/2020 au vendredi 27/11/2020

Janvier Février Mars Avril
Mai Juin Juillet Août
Sept. Oct. Nov.
20442
Déc.
OBJECTIFS
-

Connaître les mécanismes de base de création d'un plasma froid


-

Savoir utiliser des dispositifs optique et électrostatique de caractérisation


-

Acquérir les bases des procédés de dépôts par voie chimique (CVD) et physique (PVD)


-

Appréhender les mécanismes de gravure de couches minces par plasmas


-

Connaître les principaux types de réacteurs plasma, radiofréquence et micro-onde

PUBLIC
Techniciens supérieurs, ingénieurs, chercheurs
PRÉREQUIS
Notions de base en physique (niveau Bac + 2 minimum)
PROGRAMME
- Bases théoriques des plasmas
- Production de plasmas froids
- Diagnostics optiques des plasmas
- Procédés de pulvérisation et caractérisation des couches minces obtenues
- Fonctionnement d'un réacteur RF (13.56 MHz) (TP)
- Plasmas et croissance de films minces
- Introduction aux mécanismes de gravure
- Utilisation des sondes de Langmuir (TP)
- Utilisation de l'actinométrie pour la caractérisation d'un plasma (TP)
- Traitements de surfaces des polymères et dépôts de couches minces organiques par plasma
EQUIPEMENT
Dispositif de mesure par sonde électrostatique (de Langmuir) ; spectromètre optique de haute résolution (Jobin-Yvon FHR1000) ; dispositif interférentiel de mesure d'épaisseur ; réacteur plasma ECR (2,45 GHz) ; réacteur R.F. (13,56 MHz)
INTERVENANTS
S. Béchu, G. Henrion (chercheurs), M. Bonvalot, T. Tillocher, J. Pulpytel, S. Roualdes-Boutevin (maîtres de conférences), B. Fernandez (assistant ingénieur), A. Bès et F. Silva (ingénieurs de recherche)
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